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日本Shinkuu全自動(dòng)小型涂布機(jī)MSP-40T：實(shí)驗(yàn)室薄膜沉積的理想選擇

發(fā)布時(shí)間： 2025-05-26　　點(diǎn)擊次數(shù)： 68次

　　在材料科學(xué)、電子顯微鏡樣品制備以及納米技術(shù)研究中，精確的薄膜涂布是實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量實(shí)驗(yàn)和產(chǎn)品開發(fā)的關(guān)鍵步驟。日本Shinkuu公司推出的MSP-40T全自動(dòng)小型涂布機(jī)以其高效、全自動(dòng)化的操作和薄膜沉積性能，成為實(shí)驗(yàn)室和研發(fā)環(huán)境中理想的涂布解決方案。

　　一、技術(shù)參數(shù)

　　設(shè)備類型：多用途實(shí)驗(yàn)沉積系統(tǒng)，配備全自動(dòng)沉積功能。

　　尺寸與重量：小型桌面型設(shè)計(jì)，適合小空間使用。

　　電源：AC100V，15A。

　　真空系統(tǒng)：配備渦輪泵和隔膜泵，可實(shí)現(xiàn)清潔的高真空環(huán)境。

　　靶材：支持多種金屬靶材，包括金、銀、鉑、鎢等。

　　沉積方式：通過強(qiáng)磁場實(shí)現(xiàn)高效薄膜沉積。

　　二、功能特點(diǎn)

　　全自動(dòng)操作：只需設(shè)置涂層時(shí)間并按下開始按鈕，即可自動(dòng)完成沉積過程，操作簡便。

　　高效沉積：結(jié)合高速排氣系統(tǒng)，能夠快速完成薄膜沉積，提高實(shí)驗(yàn)效率。

　　高真空環(huán)境：通過渦輪泵和隔膜泵實(shí)現(xiàn)清潔的高真空，確保薄膜沉積的高質(zhì)量。

　　多種靶材選擇：支持多種金屬靶材，滿足不同實(shí)驗(yàn)需求。

　　安全設(shè)計(jì)：配備聯(lián)鎖功能，防止操作錯(cuò)誤。

　　三、應(yīng)用場景

　　MSP-40T全自動(dòng)小型涂布機(jī)廣泛應(yīng)用于以下領(lǐng)域：

　　電子顯微鏡樣品制備：為掃描電子顯微鏡(SEM)和透射電子顯微鏡(TEM)樣品提供高質(zhì)量的導(dǎo)電涂層。

　　半導(dǎo)體制造：用于半導(dǎo)體制造過程中的薄膜沉積。

　　納米材料研究：適用于納米薄膜、納米復(fù)合材料等研究。

　　材料科學(xué)：用于研究高性能薄膜材料的制備和性能。

　　四、總結(jié)

　　日本Shinkuu MSP-40T全自動(dòng)小型涂布機(jī)以其高效、全自動(dòng)化的操作和薄膜沉積性能，為實(shí)驗(yàn)室和研發(fā)環(huán)境中的薄膜制備提供了一個(gè)理想的解決方案。它不僅能夠滿足多種材料和應(yīng)用的需求，還能通過高真空環(huán)境和多種靶材選擇，確保薄膜沉積的高質(zhì)量。對于需要高效、精確薄膜沉積的用戶來說，MSP-40T無疑是一個(gè)值得信賴的選擇。

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